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氣相色譜專用氫氣發(fā)生器是氣相色譜分析重要的配套設(shè)備，廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)、食品安全、法醫(yī)鑒定、石油化工等多個(gè)領(lǐng)域的分析實(shí)驗(yàn)室。

由于氣相色譜專用氫氣發(fā)生器具備安全、簡(jiǎn)便的性能特點(diǎn)，因此可以替代危險(xiǎn)的高壓氫氣鋼瓶。氫氣的產(chǎn)生可以根據(jù)需要適時(shí)適量進(jìn)行，從而保持氫氣儲(chǔ)存體積和安全性。

高純半導(dǎo)體專用氫氣發(fā)生器可以連續(xù)可靠的產(chǎn)生純度很高的氫氣，純度99.99999%。從而使昂貴且危險(xiǎn)的高壓氫氣鋼瓶告別實(shí)驗(yàn)室，因更換鋼瓶而中斷重要分析工作的情況將不復(fù)存在。

相比昂貴且危險(xiǎn)的高壓氫氣鋼瓶，氫氣發(fā)生器具有很大的優(yōu)勢(shì)。它只需要去離子水和供電即可產(chǎn)生氫氣，一次加水可持續(xù)工作長(zhǎng)達(dá)15天，成本低廉。

CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器操作方便使用時(shí)只需打開(kāi)電源開(kāi)關(guān)即可產(chǎn)氫，使用后無(wú)需泄壓，直接關(guān)閉電源即可?？蛇B續(xù)使用，也可間斷使用，產(chǎn)氫量穩(wěn)定不衰減。

CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）是兩種常用的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，用于制備薄膜、涂層和納米材料等。